發(fā)布時(shí)間:2020年02月19日
2020年2月19日-21日,TCT Asia 2020–亞洲3D打印、增材制造展覽會(huì)(以下簡(jiǎn)稱“TCT 亞洲展”)將在上海新國(guó)際博覽中心召開,鉑力特將六赴TCT亞洲展,攜全新金屬增材制造系統(tǒng)BLT-S450及新材料、新應(yīng)用升級(jí)亮相,在N1-G11展位,為全球用戶提供更加優(yōu)質(zhì)、更多突破、更具效益的金屬增材制造全套解決方案!
此次展會(huì),鉑力特將面向全球用戶首發(fā)大尺寸金屬增材制造系統(tǒng)BLT-S450。BLT-S450是鉑力特面向航空、航天、醫(yī)療、汽車、模具等多領(lǐng)域用戶生產(chǎn)需求開發(fā)的高效率高質(zhì)量金屬增材制造整合系統(tǒng),設(shè)備最大成形尺寸420mm *450mm*450mm,可成形材料包括鈦合金、鋁合金、高溫合金、不銹鋼、高強(qiáng)鋼、模具鋼等多種金屬材料。設(shè)備充分考慮設(shè)備穩(wěn)定性、生產(chǎn)效率、設(shè)備利用率、操作便利性、人員安全等幾大因素,致力于為用戶快速、高效地創(chuàng)造價(jià)值!
需求定制,自由選配
BLT-S450系列設(shè)備可選配單激光、雙激光和四激光三種激光器配置,滿足不同應(yīng)用領(lǐng)域使用者對(duì)設(shè)備成形效率的需求,且激光數(shù)量的變化并不影響整機(jī)外形,后期可單獨(dú)升級(jí);設(shè)備可選配多種尺寸加工幅面,最大成形尺寸可達(dá)420mm*450 mm*450mm,滿足不同尺寸零件加工及高效率批產(chǎn)需求;此外,BLT-S450系列設(shè)備在打印同種材料條件下,可定制多種針對(duì)不同零件特征和不同關(guān)鍵質(zhì)量目標(biāo)(如:表面粗糙度,致密度和成形效率等)的工藝參數(shù)。
持續(xù)穩(wěn)定,品質(zhì)護(hù)航
BLT-S450系列設(shè)備標(biāo)配長(zhǎng)壽命安全過濾器,濾芯使用壽命超過1500h,支持選配永久過濾器(終身壽命內(nèi)無需更換濾芯),實(shí)現(xiàn)設(shè)備“超長(zhǎng)待機(jī)”;設(shè)備加粉無需中斷打印,模塊化送粉機(jī)構(gòu)可整體拆裝,方便用戶快速清粉和換粉;設(shè)備獨(dú)有的刮刀位置實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)功能及鋪粉質(zhì)量檢測(cè)選配功能,可有效避免因刮刀位置異?;蚵浞郛惓6斐傻牧慵?bào)廢問題;設(shè)備采用高可靠性氧含量控制系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn)氧含量實(shí)時(shí)精準(zhǔn)監(jiān)控和自動(dòng)防錯(cuò),確保設(shè)備成形環(huán)境持續(xù)穩(wěn)定;設(shè)備具備斷電保護(hù)功能,突發(fā)斷電后數(shù)據(jù)自動(dòng)存儲(chǔ),重新上電后無需復(fù)位即可繼續(xù)打印。
安全可靠,人機(jī)友好
BLT-S450系列設(shè)備在設(shè)計(jì)初期充分考慮人機(jī)交互性,設(shè)備操作方便舒適,同時(shí)開放式布局及模塊化布置可保證用戶日常操作和維護(hù)的便捷性;設(shè)備成形室前后及取件艙均配置手套箱,操作人員可借助手套箱完成成形室內(nèi)部各項(xiàng)基本操作,避免與金屬粉末直接接觸,實(shí)現(xiàn)“人粉隔離”。此外,多重安全防護(hù)設(shè)計(jì)有效避免了設(shè)備運(yùn)行過程中存在的潛在風(fēng)險(xiǎn),可最大限度保證人員安全和設(shè)備無故障運(yùn)行。
BLT-S450系列設(shè)備還綜合考慮不同用戶使用“痛點(diǎn)”,為用戶提供更加匹配的解決方案。針對(duì)工業(yè)生產(chǎn)型用戶,設(shè)備采用簡(jiǎn)單的操作頁(yè)面、全面的自動(dòng)預(yù)警機(jī)制和自動(dòng)化的操作配置,同時(shí)設(shè)備自帶多重通用型軟硬件接口,便于后期智能工廠建設(shè)和升級(jí);針對(duì)研發(fā)型用戶,設(shè)備配套專業(yè)的中、高級(jí)培訓(xùn),且工藝參數(shù)向用戶開放編輯權(quán)限,便于開展各項(xiàng)合作研究。
2020年2月19日-21日,鉑力特誠(chéng)摯邀請(qǐng)您蒞臨上海新國(guó)際博覽中心N1-G11展位,擔(dān)任BLT-S450系列設(shè)備首席體驗(yàn)官!鉑力特期待與您分享我們的最新成果!